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      上海依肯机械设备有限公司的另外一项独特的创新新，就是CMO2000系列锥体磨（胶体磨），它的设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000系列锥体磨（胶体磨）能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比CM2000系列胶体磨还小。 锥体磨（胶体磨）的研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。 
     

研磨分散机的工作原理：

      研磨分散机，我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

研磨分散设备的结构：

      研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

      第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

      第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

研磨分散设备的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

研磨分散设备的应用领域：
①食品工业：果茶、冰淇淋、月饼馅、果酱、果汁、豆酱、豆沙、花生奶、乳制品，麦乳精、各种饮料等。

②化学工业：油漆、颜料、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、玻璃钢、二氧化硅等。
③日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂等。
④医药工业：各型糖浆、中成药、生物制品、蜂皇浆、疫苗、药膏、口服液、针剂等。
⑤建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工业：塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要。

CMO2000设备参数：