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胶体磨CM2000高速胶体磨
胶体磨CM2000

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到到4-5倍以上,研磨效果好,转速可以达到到14000RPM,可以达到到更好的分散湿磨效果。

胶体磨CMO2000高速胶体磨
胶体磨CMO2000

依肯独特的创新,MO2000系列锥体磨(胶体磨),它的设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000系列锥体磨(胶体磨)能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比CM2000系列胶体磨还小,锥体磨(胶体磨)的研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。

胶体磨CMD2000高速胶体磨
胶体磨CMD2000

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求

胶体磨CMSD2000高速胶体磨
胶体磨CMSD2000

CMSD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,形成的摩擦力比较剧烈,就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

胶体磨CMXD2000高速胶体磨
胶体磨CMXD2000

圆椎形定转子,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。