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CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMO2000系列锥体磨（胶体磨），它的创新设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000系列锥体磨（胶体磨）能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比CM2000系列胶体磨还小，锥体磨（胶体磨）的研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。

CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMSD系列，采用德国技术，设备转速可高达14000rpm，是国产设备的4-5倍；磨头结构为三级错齿，沟槽深度从上到下为由深到浅，沟槽的宽度也是从上到下为由大到小，这样每级都会对物料更进一步的研磨粉碎。而国产胶体磨从上到下的宽度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN胶体磨采用德国博格曼双端面机械密封，并配有机密冷却系统，在确保冷却水的情况下，可24小时连续生产。

CMXD系列采用圆椎形定转子,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMO2000实在CM2000基础上的进一步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至最小，来减小颗粒粒径，从而可获更细的悬浮液。由于这项创新，CMO2000系列锥体磨（胶体磨）能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比CM2000系列胶体磨还小。 锥体磨（胶体磨）的研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。

研磨分散机是由胶体磨，分散机组合而成的高科技产品，第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品，CMSD系列的线速度很高，剪切间隙非常小，凹槽在每级都可以改变方向；同时，高质量的表面抛光和结构材料可满足不同行业的多种要求。